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ALN(氮化鋁)陶瓷基片-金太客科技

ALN(氮化鋁)陶瓷基片主要性能指標 Technical factors of Aluminum Nitride substracts 性能內容(Property Content) ---

ALN基板
ALN基板
ALN(氮化鋁)陶瓷基片主要性能指標 Technical factors of Aluminum Nitride substracts

性能內容(Property Content)
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體積密度(g/cm3)≥3.30 g/cm3
吸水率(%)=0 熱導率[20℃](W/m•k)≧170
線膨脹系數[RT-400℃](10-6/℃)=4.4
抗彎強度(MPa)≧330
體積電阻率(Ω•cm)≥1014
介電常數[1MHz]=9.0
介質損耗[1MHz]=3×10-4
抗電強度(KV/mm)≧15
表面粗糙度Ra (μm)=0.3~0.5
翹曲度(~/25.4(長度))=0.03~0.05
外觀:致密、細晶
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備注:
1.表面光潔度經拋光處理後,Ra≧0.1μm
2.產品各向尺寸精度通過激光劃線保證,最小值±0.10mm
3.特殊規格產品可按客戶要求定制生產
ALN基板
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